[发明专利]化合物单晶的制造方法和用于该制造方法的制造装置有效
| 申请号： | 200580005394.9 | 申请日： | 2005-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN1922345A | 公开（公告）日： | 2007-02-28 |
| 发明（设计）人： | 森勇介;北冈康夫;峯本尚;木户口勲;高桥康仁;佐佐木孝友;川村史朗 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社;森勇介 |
| 主分类号： | C30B19/02 | 分类号： | C30B19/02;C30B29/38 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够提高生长速率，在短时间内培养出晶体均匀性高的大单晶的化合物单晶的制造方法以及用于该制造方法的制造装置。在原料液中，搅拌所述原料液以产生从与原料气体相接的气液界面向着所述原料液的内部的流动，同时使化合物单晶生长。通过所述搅拌，可以容易地将原料气体溶解在原料液中，可以在短时间内实现过饱和状态，能够提高化合物单晶的生长速率，而且，通过所述搅拌，由于形成从原料气体浓度高的气液界面向着原料气体浓度低的原料液内部的流动，原料气体的溶解也变得均匀，因此可以抑制在气液界面产生不均匀的晶核，还可以提高所得到的化合物单晶的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 化合物 制造 方法 用于 装置 | ||
【主权项】：
1、一种化合物单晶的制造方法，其是通过使原料气体和原料液反应而使化合物单晶生长，在所述原料液中，搅拌所述原料液以产生从与所述原料气体相接的气液界面向着所述原料液内部的流动，同时使所述单晶生长。
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