[发明专利]合成二氧化硅玻璃光学材料及其制备方法无效
| 申请号： | 200580005579.X | 申请日： | 2005-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN1922115A | 公开（公告）日： | 2007-02-28 |
| 发明（设计）人： | D·C·布克宾德;R·M·菲亚克;K·E·贺迪纳;L·A·莫尔;S·L·希费尔贝因 | 申请（专利权）人： | 康宁股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C3/06 | 分类号： | C03C3/06;C03C4/00;C03B19/14 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 项丹 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 揭示了一种合成二氧化硅玻璃光学材料，这种材料对紫外波长区、具体来说是波长小于约250纳米的紫外辐照造成的光学损害具有很高的耐受性，具体来说是具有很低的激光引发的波前畸变；具体来说，当其受到约193纳米、能量密度约70微焦/厘米2的100亿个激光脉冲的作用时，在633纳米测得其激光引发的波前畸变约为－1.0至1.0纳米/厘米。本发明的合成二氧化硅玻璃光学材料的OH浓度约小于600ppm，优选约小于200ppm，其H2浓度约小于5.0×1017分子/厘米1017分子/厘米二氧化硅玻璃光学材料的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 合成 二氧化硅 玻璃 光学材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于波长小于250纳米的区域、并能够耐受该区域内的光学损害的合成二氧化硅玻璃光学材料，所述合成二氧化硅玻璃光学材料的H2浓度小于约5.0×1017分子/厘米3，OH浓度小于约600ppm；并且当其受到在约193纳米和约70微焦/厘米2的能量密度下操作的100亿个激光脉冲的作用时，在633纳米处测得其激光引发的波前畸变为-1.0至1.0纳米/厘米。
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