[发明专利]具有与介质和温度相关的功率控制方案的记录设备

摘要

本发明涉及一种记录设备，一种记录载体，以及一种方法，控制用于将数据记录在记录载体特别是染料介质上的辐射功率，其中在与温度和盘相关的参数的基础上执行写入功率控制，以便解决写入性能问题。为此，将指示由于记录载体的不均匀性的辐射功率的变化的第一控制参数作为记录位置的函数预测，并且基于测量的温度预测指示辐射功率的温度相关性的第二控制参数。由此，可以提高写入功率控制的准确度，特别是在任意记录位置之间跳转的情况下。

主权项

1、通过具有辐射功率的聚焦辐射束照射记录载体将数据记录在所述记录载体上的记录设备，所述设备包括：-产生所述聚焦辐射束的装置(10)；-预测作为记录位置的函数的第一控制参数的第一预测装置(20，24)，所述第一控制参数指示补偿所述记录载体的不均匀性所需的辐射功率变化；-预测第二控制参数的第二预测装置(30)，所述第二控制参数指示所述辐射功率的温度相关性；以及-依靠所述第一和第二控制参数控制所述辐射功率的功率控制装置(10)。