[发明专利]浸液曝光用正型光刻胶组成物及光刻胶图案的形成方法无效
| 申请号： | 200580006991.3 | 申请日： | 2005-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN1930523A | 公开（公告）日： | 2007-03-14 |
| 发明（设计）人： | 石冢启太;远藤浩太郎 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039 |
| 代理公司： | 上海新高专利商标代理有限公司 | 代理人： | 楼仙英 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 浸液曝光用正型光刻胶组成物及光刻胶图案的形成方法，尤其是对水隔绝性好的具有耐浸液性的浸液曝光用正型光刻胶组成物及采用该光刻胶组成物的光刻胶图案的形成方法。浸液曝光用正型光刻胶组成物包含(A)通过酸的作用而使碱溶性增大的树脂成分和(B)通过曝光产生酸的酸发生剂成分，其特征在于，上述树脂成分(A)至少含有丙烯酸酯构成单元(a1)和具有酸离解性溶解抑制基的(甲基)丙烯酸酯构成单元(a2)，上述构成单元(a1)由与上述构成单元(a1)的丙烯酸酯键合的环状基和与该环状基键合的特定结构的氟化有机基形成。 | ||
| 搜索关键词： | 浸液 曝光 用正型 光刻 组成 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.浸液曝光用正型光刻胶组成物，包含(A)通过酸的作用使其碱溶性增大的树脂成分、和(B)通过曝光产生酸的酸发生剂成分，其特征在于，所述树脂成分(A)至少含有丙烯酸酯构成单元(a1)和具有酸离解性溶解抑制基的(甲基)丙烯酸酯构成单元(a2)；所述构成单元(a1)由与上述构成单元(a1)的丙烯酸酯键合的环状基和与该环状基键合的氟化有机基形成；有机基的氢原子的至少一部分被氟取代而形成的所述氟化有机基，具有取代或非取代的醇式羟基。
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