[发明专利]光学活性氟化合物的制造方法无效

专利信息
申请号: 200580007051.6 申请日: 2005-03-02
公开(公告)号: CN1930109A 公开(公告)日: 2007-03-14
发明(设计)人: 原正治;福原疆 申请(专利权)人: 三菱瓦斯化学株式会社
主分类号: C07C67/00 分类号: C07C67/00;C07C27/02;C07C31/38;C07C69/76;C07C69/92;C07D317/24;C07D317/22;C07B53/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 陈昕
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供通过特定的氟胺与光学活性二醇类反应制造通式(3)表示的光学活性氟化合物的方法,及水解该光学活性氟化合物来制造光学活性氟醇的方法。采用本发明的方法可以在光学上高纯度地,且高收率地简便地制造该光学活性氟化合物及光学活性氟醇。光学活性氟醇是除了作为药物、农药之外,作为功能化学品的原料有用的化合物。
搜索关键词: 光学 活性 氟化 制造 方法
【主权项】:
1.通式(3)表示的光学活性氟化合物的制造方法,其特征在于使通式(1)表示的氟胺与通式(2)表示的光学活性二醇反应,[化1][化2][化3]式中,通式(1)中的R0、R1及R2是氢原子、或有时有取代基的烷基或芳基,可以彼此相同也可以不同,另外,R0、R1、R2的2个以上可以结合形成环,通式(2)及(3)中的R3、R4、R5及R6是氢原子,或有时有取代基的烷基或芳基,R3与R4及R5与R6彼此不同,R3与R4所结合的碳原子及R5与R6所结合的碳原子均是不对称碳,n是0~3的整数。
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