[发明专利]铜合金及其制造方法无效
| 申请号： | 200580007543.5 | 申请日： | 2005-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN1930314A | 公开（公告）日： | 2007-03-14 |
| 发明（设计）人： | 前原泰裕;米村光治;中岛敬治;长道常昭 | 申请（专利权）人： | 住友金属工业株式会社 |
| 主分类号： | C22C9/00 | 分类号： | C22C9/00;C22F1/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种铜合金，其具有规定的化学组成，余量由铜和杂质构成，粒径为1μm以上的析出物和夹杂物的合计个数满足下述(1)式所示的关系。该铜合金其获得是通过熔炼、铸造后，至少从紧接铸造之后的铸片温度到450℃的温度区域中，以0.5℃/s以上的冷却速度冷却。在此冷却后，优选在600℃以下的温度区域加工之后，供给于150～750℃的温度区域保持30秒以上的热处理，更优选多次进行此加工和热处理。logN≤0.4742+17.629×exp(－0.1133×X)…(1)，其中，N的意思是每单位面积的析出物和夹杂物的合计个数(个/mm2)，X的意思是析出物和夹杂物的粒径(μm)。 | ||
| 搜索关键词： | 铜合金 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种铜合金，其特征在于，含有从Zn、Sn、Ag、Mn、Fe、Co、Al、Ni、Si、Mo、V、Nb、Ta、W、Ge、Te和Se之中选择的1种或2种以上，且其合计为0.1～20质量％，余量由铜和杂质构成，存在于合金中的析出物和夹杂物之中粒径为1μm以上的析出物和夹杂物的粒径、与析出物和夹杂物的合计个数满足由下述(1)式所示的关系，logN≤0.4742+17.629×exp(-0.1133×X)…(1)其中，N的意思是每单位面积的析出物和夹杂物的合计个数，单位是个/mm2，X的意思是析出物和夹杂物的粒径，单位是μm。
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