[发明专利]用于密封井身中的环形空间的系统无效
| 申请号： | 200580007864.5 | 申请日： | 2005-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN1930365A | 公开（公告）日： | 2007-03-14 |
| 发明（设计）人： | M·N·巴艾延斯;M·G·R·博斯马;E·K·科内利森 | 申请（专利权）人： | 国际壳牌研究有限公司 |
| 主分类号： | E21B33/127 | 分类号： | E21B33/127;E21B17/10 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 寇英杰 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于密封环形空间的系统，所述环形空间位于延伸到井身(1)中的管状元件(7)和围绕着该管状元件的圆柱形壁(1b)之间，其中，用于控制井下装置(12，13，14，15)的控制线(18)沿着管状元件在纵向上延伸。该系统包括围绕管状元件(7)延伸的环形密封层(20)，所述密封层具有设有凹进(40)的内表面，其中该凹进用于径向接收控制线。密封层还设有纵向狭缝(31)，该狭缝限定出一对彼此相对的纵向边缘(32，34)，这对纵向边缘能够在打开位置和闭合位置之间彼此相对移动，其中在所述打开位置，密封层能够被径向地施加到管状元件上，在所述闭合位置，密封层围绕管状元件延伸。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 密封 中的 环形 空间 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于密封环形空间的系统，所述环形空间位于延伸到井身中的管状元件和围绕着该管状元件的圆柱形壁之间，其中，用于控制井下装置的控制线沿着管状元件在纵向上延伸，该系统包括在围绕管状元件延伸的环形密封层，所述密封层具有设有凹进的内表面，该凹进用于径向接收控制线，所述密封层还设有纵向狭缝，该狭缝限定出一对相对的纵向边缘，这对纵向边缘能够在打开位置和闭合位置之间彼此相对移动，在所述打开位置，所述密封层能够被径向地施加到管状元件上，在所述闭合位置，所述密封层围绕管状元件延伸。
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