[发明专利]氧化铝涂层、带涂层产品及其制造方法有效
申请号: | 200580007972.2 | 申请日: | 2005-03-10 |
公开(公告)号: | CN1930321A | 公开(公告)日: | 2007-03-14 |
发明(设计)人: | A·S·小盖茨;P·K·梅赫罗特拉;C·G·麦克纳尼;P·R·莱希特 | 申请(专利权)人: | 钴碳化钨硬质合金公司 |
主分类号: | C23C16/40 | 分类号: | C23C16/40;C23C16/02 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 蔡胜有 |
地址: | 美国宾*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 包含基体(22)和基体上的涂层方案(32)的带涂层体。基体(22)上的涂层方案(32),其中,该涂层方案包含:在α氧化铝涂层(40)的表面上具有片状晶粒形貌的α氧化铝涂层(40);或在其表面上表现出透镜状晶粒形貌或多面体-透镜状晶粒形貌的κ氧化铝涂层(40);或在表面上表现出大的多刻面晶粒形貌或多面体-多刻面晶粒形貌的α-κ氧化铝涂层(40)。 | ||
搜索关键词: | 氧化铝 涂层 产品 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种带涂层体,包括:基体;和基体上的涂层方案,其中,该涂层方案包含α氧化铝涂层,该α氧化铝涂层在α氧化铝涂层的表面表现出片状晶粒形貌。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的