[发明专利]光学记录介质有效
| 申请号： | 200580008136.6 | 申请日： | 2005-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN1930622A | 公开（公告）日： | 2007-03-14 |
| 发明（设计）人： | 石见知三 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | G11B7/24 | 分类号： | G11B7/24 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋莉;杨梧 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的光学记录介质包括透明基底、记录层、光学反射层和保护层，其中上述后三层依次在基底上形成，并且能在记录线速度为27.9m/s或更高下进行记录。光学反射层的特征在于该层包括Ag和主要由Ag制成的合金中的任何一种，并且光学反射层的x－射线衍射光谱满足关系式0.2＜I(200)/I(111)＜0.4，其中I(111)是(111)面的x－射线衍射峰的强度，而I(200)是(200)面的x－射线衍射峰的强度，该强度是当相对于光学透明基底的表面的入射角为θ时通过基于θ－2θ方法的x－射线衍射测定的。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 记录 介质 | ||
【主权项】：
1.一种光学记录介质，包括：透明基底；具有主要成分为有机染料的记录层；光学反射层；和保护层，其中该记录层、该光学反射层、和该保护层依次在该基底上形成，可在记录线速度为27.9m/s下进行记录，其中该光学反射层包括Ag和主要由Ag制成的合金中的任何一种，并且该光学反射层的x-射线衍射光谱满足以下关系式：0.2＜I(200)/I(111)＜0.4其中I(111)是(111)面的x-射线衍射峰的强度，而I(200)是(200)面的x-射线衍射峰的强度，该强度是当相对于光学透明基底的表面的入射角为θ时通过基于θ-2θ方法的x-射线衍射测定的。
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