[发明专利]含有硫原子的防反射膜有效
| 申请号： | 200580008475.4 | 申请日： | 2005-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN1934500A | 公开（公告）日： | 2007-03-21 |
| 发明（设计）人： | 广井佳臣;岸冈高广;中山圭介;坂本力丸 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;C08L101/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 段承恩;田欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种防反射膜和用于形成防反射膜的组合物，所述的防反射膜，防反射光的效果高，不发生与光致抗蚀剂的混合，能够在使用F2受激准分子激光(波长157nm)或ArF受激准分子激光(波长193nm)等短波长的光的光刻工艺中使用。本发明的用于形成防反射膜的组合物，其特征在于，包含固体成分和溶剂，硫原子在该固体成分中所占的比例为5～40质量％。上述固体成分包含具有至少5质量％的硫原子的聚合物等。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 原子 反射 | ||
【主权项】：
1.一种用于形成防反射膜的组合物，包含固体成分和溶剂，硫原子在上述固体成分中所占的比例为5～25质量％。
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