[发明专利]爆破处理方法有效
申请号: | 200580008918.X | 申请日: | 2005-03-22 |
公开(公告)号: | CN1934407A | 公开(公告)日: | 2007-03-21 |
发明(设计)人: | 藤原修三;松永猛裕;冈田贤;黑濑克夫;小出宪司 | 申请(专利权)人: | 独立行政法人产业技术综合研究所;株式会社神户制钢所 |
主分类号: | F42B33/06 | 分类号: | F42B33/06;F42D5/04 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汪惠民 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种爆破处理方法,是在具有规定形状的外壳的被处理物的表面形成炸药层,使所述炸药层爆炸而处理被处理物的,其中,所述炸药层具有形成于所述外壳的外表面的第1炸药层,和以围绕第1炸药层而形成的第2炸药层,第2炸药层的炸药比第1炸药层的炸药的爆速大,在所述第2炸药层的规定位置点火,使所述第2炸药层及第1炸药层隔时爆炸。从而缓和外壳的飞散的冲击,能够以低成本进行爆破处理。 | ||
搜索关键词: | 爆破 处理 方法 | ||
【主权项】:
1、一种爆破处理方法,其特征是,在具有规定形状的外壳的被处理物的外表面形成炸药层,使所述炸药层爆炸而处理被处理物的,其中,所述炸药层具有:第1炸药层,形成于所述外壳的外表面;第2炸药层,以围绕所述第1炸药层而形成;其中,第2炸药层的炸药与第1炸药层的炸药相比爆速大,在所述第2炸药层的规定位置点火,使所述第2炸药层及第1炸药层隔时爆炸。
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