[发明专利]图案形成方法及图案无效
| 申请号： | 200580008958.4 | 申请日： | 2005-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN1934502A | 公开（公告）日： | 2007-03-21 |
| 发明（设计）人： | 高岛正伸;佐藤守正;石川弘美;下山裕司 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/004;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 陈平 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的目的是提供图案形成方法，该方法可以适当抑制在图案形成材料上的图像畸变，并且可以有效地形成具有高度精细和精确的图案比如布线图案。为了实现该目的，提供了根据本发明的图案形成方法，包括：调制由激光源所辐射出的激光束、补偿调制的激光束以及用调制且补偿的激光束曝光在图案形成材料内的光敏层，其中所述图案形成材料包括载体和光敏层，所述光敏层包含阻聚剂、粘合剂、可聚合化合物和光聚合引发剂，所述调制是通过包含多个成像部分的激光调制器进行的，每个成像部分能够接收激光束和输出调制的激光束，所述补偿是通过将调制的激光束通过多个微透镜传输进行的，每一个微透镜都具有非球形表面。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种图案形成方法，所述方法包括：调制由激光源辐射出的激光束，补偿调制的激光束，以及用调制且补偿的激光束曝光在图案形成材料内的光敏层，其中所述图案形成材料包括载体和光敏层，所述光敏层包含阻聚剂、粘合剂、可聚合化合物和光聚合引发剂，所述调制是通过包含多个成像部分的激光调制器进行的，每个成像部分都能够接收激光束和输出调制的激光束，以及所述补偿是通过将调制的激光束通过多个微透镜传输进行的，每一个微透镜都具有能够补偿由于成像部分的输出表面畸变所致的像差的非球形表面，而且所述多个微透镜被排列成微透镜阵列。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社，未经富士胶片株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200580008958.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
