[发明专利]曲面模具的制造方法及使用该模具的光学元件的制造方法无效
| 申请号： | 200580009532.0 | 申请日： | 2005-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN1956829A | 公开（公告）日： | 2007-05-02 |
| 发明（设计）人： | 小林伸二;山口淳;鹫见聪;樋口政广;前纳良昭 | 申请（专利权）人： | 三洋电机株式会社 |
| 主分类号： | B29C33/38 | 分类号： | B29C33/38;B29C33/42;B29L11/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种能够容易地制造可在非球面透镜等具有复杂的表面形状的透镜等上附加反射防止构造的模具的方法。本发明在形成为规定形状的曲面母材(1)上形成二氧化硅膜(SiO2)膜(2)，使用抗蚀剂掩模(3)实施蚀刻，在该二氧化硅膜(SiO2)膜(2)上形成规定形状的反射防止构造的图案，在形成有该反射防止膜图案的二氧化硅膜(SiO2)膜(21)上被覆模具用金属(4)，在模具用金属(4)上转印反射防止膜图案之后，去除二氧化硅膜(SiO2)膜，在曲面上形成具有反射防止构造的模具(4a)。 | ||
| 搜索关键词： | 曲面 模具 制造 方法 使用 光学 元件 | ||
【主权项】：
1.一种具有微细凹凸构造的曲面模具的制造方法，其特征在于，在形成为规定形状的曲面母材上形成硅系膜，在该硅系膜上使用掩模实施蚀刻而形成规定形状的微细凹凸构造的图案，在形成有该微细的凹凸构造的图案的硅系膜上被覆模具用金属，在该模具用金属上转印微细的凹凸构造的图案后去除硅系膜，在曲面上形成具有微细凹凸构造的模具。
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