[发明专利]化学机械抛光组合物及使用其的方法有效
| 申请号： | 200580009637.6 | 申请日： | 2005-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN1938392A | 公开（公告）日： | 2007-03-28 |
| 发明（设计）人： | 弗朗西斯科·德里格思索罗;凯文·莫根伯格;维拉斯塔·布鲁西克;本杰明·拜尔 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/321 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋莉;贾静环 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种化学机械抛光组合物，其包含：(a)包含α－氧化铝的研磨剂，(b)以抛光组合物的总重量计，0.05至50mmol/kg的选自钙、锶、钡及其混合物的至少一种金属离子，及(c)包含水的液态载体。本发明还提供一种化学机械抛光组合物，其包含：(a)选自α－氧化铝、γ－氧化铝、δ－氧化铝、θ－氧化铝、钻石、碳化硼、碳化硅、碳化钨、氮化钛及其混合物的研磨剂，(b)以抛光组合物的总重量计，0.05至3.5mmol/kg的选自钙、锶、钡、镁、锌及其混合物的至少一种金属离子，及(c)包含水的液态载体。本发明进一步提供一种使用上述各化学机械抛光组合物抛光基材的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 组合 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光组合物，其包含：(a)包含α-氧化铝的研磨剂，(b)以抛光组合物的总重量计，0.05至50mmol/kg的选自钙、锶、钡及其混合物的至少一种金属离子，及(c)包含水的液态载体。
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