[发明专利]真空卡盘和吸附板有效
| 申请号： | 200580009675.1 | 申请日： | 2005-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN1938122A | 公开（公告）日： | 2007-03-28 |
| 发明（设计）人： | 石川茂治;桐山胜之 | 申请（专利权）人： | 揖斐电株式会社 |
| 主分类号： | B23Q3/08 | 分类号： | B23Q3/08;B24B37/04;B24B41/06;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈坚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供一种可实现被吸附体的均匀研磨等的真空卡盘，本发明的真空卡盘的特征在于，具有用于吸附和保持被吸附体的吸附板，该吸附板构成为使由多孔质陶瓷构成的吸附层和致密质层一体化，并且使上述吸附层位于吸附被吸附体的一侧，上述致密质层通过使金属浸渍到上述多孔质陶瓷中而形成。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 卡盘 吸附 | ||
【主权项】：
1.一种真空卡盘，其特征在于，该真空卡盘具有用于吸附和保持被吸附体的吸附板，该吸附板构成为使由多孔质陶瓷形成的吸附层和致密质层一体化，并使上述吸附层位于吸附被吸附体的一侧；上述致密质层通过使金属浸渍到上述多孔质陶瓷内而形成。
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