[发明专利]用于光学材料的化合物及其制备方法无效
| 申请号： | 200580009717.1 | 申请日： | 2005-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN1938342A | 公开（公告）日： | 2007-03-28 |
| 发明（设计）人： | C·G·厄尔本;E·M·布赖通;R·塔马基 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | C08F14/18 | 分类号： | C08F14/18;C07F7/21 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 韦欣华;邹雪梅 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种多环或者单环的全氟乙烯基化合物，其包含至少一种选自式I和式II的结构单元，其中M在各种情况下独立地为选自元素周期表14族的金属；R在各种情况下独立地为键、氢、脂族基团、脂环族基团或者芳族基团。所述多环或者单环化合物包括至少两个全氟乙烯基团。还提供了用于制备所公开化合物的光学膜的方法，包括由所公开的化合物制备的聚合物的光电设备和由所公开的化合物制备的聚合物。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学材料 化合物 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种多环或者单环全氟乙烯基化合物，包括至少一种选自式I和式II的结构单元：![]()
其中M在各种情况下独立地为选自元素周期表14族的金属；而R在各种情况下独立地为键、氢、脂族基团、脂环族基团或者芳族基团；所述多环或者单环化合物包括至少两个全氟乙烯基基团。
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