[发明专利]氧化铟-氧化锌-氧化镁类溅射靶及透明导电膜有效

专利信息
申请号: 200580009752.3 申请日: 2005-02-23
公开(公告)号: CN101124348A 公开(公告)日: 2008-02-13
发明(设计)人: 井上一吉;松原雅人;笘井重和;岛根幸朗 申请(专利权)人: 出光兴产株式会社
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/08;G02F1/1343;H01L21/285;H01L21/70
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 朱丹
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种在溅射时不会产生节结的靶。另外,还提供蚀刻性优良并且特别是在400~450nm区域的透明性方面优良的非晶态透明导电膜。是含有氧化铟、氧化锌、氧化镁的溅射靶,该溅射靶在溅射时不会产生节结。另外,是含有氧化铟、氧化锌、氧化镁的非晶态透明导电膜,该非晶态透明导电膜在蚀刻性方面优良,并且400~450nm区域的光线透过率高。
搜索关键词: 氧化 氧化锌 氧化镁 溅射 透明 导电
【主权项】:
1.一种溅射靶,其特征是,含有氧化铟、氧化锌和氧化镁。
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