[发明专利]光学薄膜及其制造方法以及高分子液晶微粒有效

专利信息
申请号: 200580010270.X 申请日: 2005-03-17
公开(公告)号: CN1973217A 公开(公告)日: 2007-05-30
发明(设计)人: 村田亮;东健策;川月喜弘 申请(专利权)人: 株式会社巴川制纸所
主分类号: G02B5/02 分类号: G02B5/02;B32B7/02;G02B1/10;G02F1/1335;G02B5/30
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人: 钟晶
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供图象模糊和对比度下降问题得到抑制的,适宜用于进行防眩处理的光学薄膜及其制造方法。本发明的光学薄膜具有透明基体、及设置于其至少一面上的在透明树脂相中分散平均粒径0.5~10μm的透明微粒而成的涂层,其中,透明树脂相和透明微粒中的任一方含有分子取向高分子液晶化合物,另一方由光学各向同性树脂构成。
搜索关键词: 光学薄膜 及其 制造 方法 以及 高分子 液晶 微粒
【主权项】:
1.光学薄膜,其具有透明基体和涂层,所述涂层设置于所述透明基体的至少一面上,且由在透明树脂相中分散平均粒径0.5~10μm的透明微粒构成,其特征为,该透明树脂相和透明微粒中的任一方含有分子取向高分子液晶化合物,另一方由光学各向同性树脂构成。
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