[发明专利]用于离子氮化铝合金部件的设备以及使用该设备的方法无效
| 申请号： | 200580010702.7 | 申请日： | 2005-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN101128615A | 公开（公告）日： | 2008-02-20 |
| 发明（设计）人： | 弗雷德里克·娇纳雷克;丹尼斯·布萨尔都 | 申请（专利权）人： | 库尔塔克英间尼利有限公司 |
| 主分类号： | C23C8/36 | 分类号： | C23C8/36;C23C14/48 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 程大军 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于在铝合金部件(5)中注入离子的设备，其包括：放出由析出电压加速的离子的源(6)；以及用于调整由所述源(6)射出的初始离子束(fl′)成为注入束(fl)的第一调整装置(7至11)，所述设备的特征在于：所述源(6)为电子回旋加速器源，其产生以低于120℃的温度注入于部件(5)中的多能量离子，在由所述源的析出电压控制的深度处同时实施来自注入束(fl)的多能量离子的注入。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 离子 氮化 铝合金 部件 设备 以及 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于在铝合金部件(5)中注入离子的设备，其包括：放出由析出电压加速的离子的源(6)；以及用于调整由所述源(6)射出的初始离子束(f1′)成为注入束(f1)的第一调整装置(7至11)，所述设备的特征在于：所述源(6)为电子回旋加速器源，其产生以低于120℃的温度注入于部件(5)中的多能量离子，在由所述源的析出电压控制的深度处同时实施来自注入束(f1)的多能量离子的注入。
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