[发明专利]用于光刻的光源有效
| 申请号： | 200580010879.7 | 申请日： | 2005-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN1942828A | 公开（公告）日： | 2007-04-04 |
| 发明（设计）人： | S·D·帕迪亚;H·杨;E·B·李 | 申请（专利权）人： | 英特尔公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王庆海;张志醒 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 公开了一种用于光刻的混合光源。根据本发明的实施例，光源包括：头部，耦合到头部的第一组极，该第一组极设置在邻近于头部的外部边缘处，以及耦合到头部的第二组极，其位于所述外部边缘和头部中心之间。根据本发明进一步的实施例，可调整该极以改变光源的特性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 光源 | ||
【主权项】：
1.一种光源，包括：光源头部；第一组极，其耦合到头部；和第二组极，其耦合到头部，该第二组极设置在第一组极和头部的中心之间。
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