[发明专利]金属沉积物表面上出现晶须风险的评测方法无效
申请号: | 200580011226.0 | 申请日: | 2005-04-14 |
公开(公告)号: | CN1965227A | 公开(公告)日: | 2007-05-16 |
发明(设计)人: | 大卫·芒雄;斯蒂文·梅纳尔 | 申请(专利权)人: | 微脉冲电镀概念公司 |
主分类号: | G01N17/02 | 分类号: | G01N17/02;G01N27/02;G01R31/36;C25D21/00 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王玉双 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本发明涉及一种评测基板上的金属沉积物表面出现晶须风险的方法,其中该金属沉积物为纯金属沉积物或者合金沉积物,该方法是测量该金属沉积物的电化学阻抗。 | ||
搜索关键词: | 金属 沉积物 表面上 出现 风险 评测 方法 | ||
【主权项】:
1.一种测评基板上的金属沉积物表面出现晶须风险的方法,其中该金属沉积物为纯金属或者合金沉积物,该方法是测量该金属沉积物的电化学阻抗。
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