[发明专利]电子束位置变动测定方法、电子束位置变动测定装置以及电子束记录装置无效

专利信息
申请号: 200580011820.X 申请日: 2005-06-02
公开(公告)号: CN1942829A 公开(公告)日: 2007-04-04
发明(设计)人: 小岛良明 申请(专利权)人: 日本先锋公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G11B9/10;H01J37/04;H01L21/027
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 在电子束记录装置的记录之前进行的射束位置变动的测定时,能够进行稳定且准确的变动量的测定。在记录之前测定射束点(Ep)的位置变动的测定装置(10),具备:刀口(11),其配置在射束点(Ep)的照射位置;检测单元(法拉第杯(12)等),其检测通过刀口(11)照射的电子束(E);滤波器单元(高截止滤波器(14)等),其从该检测单元的输出中除去测定对象的变动频率成分;以及控制单元(15),其根据该滤波器单元的输出,控制电子束(E)的基准位置,使得射束点(Ep)的中心位于刀口(11)的末端位置,测定装置(10)根据射束点(Ep)的中心从刀口(11)的末端偏离时的检测单元的输出变化,测定射束点(Ep)的位置变动。
搜索关键词: 电子束 位置 变动 测定 方法 装置 以及 记录
【主权项】:
1.一种电子束位置变动测定方法,其特征在于,针对使电子束的射束点在记录面上会聚、并在该记录面上形成记录图案的电子束记录装置,在所述射束点的照射位置处配置刀口,检测通过该刀口照射的电子束,根据所述射束点的中心从所述刀口的前端偏离时的检测电流的变化,测定所述射束点的位置变动时,在所述测定中控制所述电子束的基准位置,使得所述射束点的中心位于所述刀口的前端位置。
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