[发明专利]与厚膜浆料相容的UV辐射阻挡保护层无效
| 申请号： | 200580011954.1 | 申请日： | 2005-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN1942824A | 公开（公告）日： | 2007-04-04 |
| 发明（设计）人： | Y·H·金;G·徐 | 申请（专利权）人： | 纳幕尔杜邦公司 |
| 主分类号： | G03C1/492 | 分类号： | G03C1/492 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 李炳爱 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及包含保护性聚合物层和UV阻挡剂的新组合物。所述组合物用于制作使用厚膜浆料的电子装置。本发明还是使用该组合物的电子装置制作方法。保护性聚合物层由辐射之后不溶于包含在厚膜浆料中的酯型溶剂的材料制作。通过适当选择保护膜聚合物，保护膜可与厚膜浆料相容并可进一步用于厚膜浆料的部分对UV辐射的屏蔽。 | ||
| 搜索关键词： | 浆料 相容 uv 辐射 阻挡 保护层 | ||
【主权项】：
1.一种组合物，所述组合物包含：a)UV阻挡剂，所述UV阻挡剂选自：硝基苯甲酸、甲氧基苯甲酸、硝基萘二甲酸、甲氧基萘二甲酸、3，5-二甲氧基，4-羟基肉桂酸、肉桂酸和它们的衍生物、2-羟基芳基苯并三唑及其衍生物、2-羟基二苯甲酮及其衍生物、蒽磺酸及其衍生物和碳纳米管；和b)聚合物，其中所述聚合物中至少50％摩尔的单体包含选自以下的结构：(a)其中R1是氢或低级烷基；R2是低级烷基；R3是氢或低级烷基，其中低级烷基的定义包括具有1至6个线形或环状碳原子的烷基基团；b)其中R1是氢或低级烷基；R2是低级烷基；R3和R4独立地为氢或低级烷基，其中低级烷基的定义包括具有1至6个碳原子的烷基基团，R1与R2的连接、或R1与R3或R4中任何一个的连接、或R2与R3或R4中任何一个的连接形成5、6或7员环；和c)其中R1是氢或低级烷基；R2是低级烷基；R3和R4独立地为氢或低级烷基，其中低级烷基的定义包括具有1至6个碳原子的烷基基团，R1与R2的连接、或R1与R3或R4中任何一个的连接、或R2与R3或R4中任何一个的连接形成5、6或7员环。
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