[发明专利]光刻用冲洗液无效

专利信息
申请号: 200580012689.9 申请日: 2005-04-20
公开(公告)号: CN1947066A 公开(公告)日: 2007-04-11
发明(设计)人: 越山淳;胁屋和正;金子文武;宫本敦史;田岛秀和;泽田佳宏 申请(专利权)人: 东京应化工业株式会社
主分类号: G03F7/32 分类号: G03F7/32;H01L21/027
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 张平元;赵仁临
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明是提供一种可将接触角40度以下的容易润湿的抗蚀图案表面改质成接触角70度以上,可有效防止图案崩溃,制造高品质制品的新颖冲洗液。该冲洗液包含下述溶液,所述溶液含有选自通式(I)(式中的R1及R2是各自氢原子的一部分或全部被氟原子取代的碳原子数为1~5的烷基或取代烷基,R1与R2可以相互连接并与和两者结合的SO2及N一同形成五员环或六员环)、通式(II)(式中的Rf是氢原子的一部分或全部被氟原子取代的碳数1~5的烷基或取代烷基,m及n是整数2或3)、或通式Rf’-COOH(式中的Rf’是碳数8~20且至少一部分被氟化的烷基)表示的水或醇溶剂可溶性氟化合物中的至少一种。
搜索关键词: 光刻 冲洗
【主权项】:
1.一种光刻用冲洗液,其包含下述溶液,所述溶液含有选自通式[化学式1](式中的R1及R2是各自氢原子的一部分或全部被氟原子取代的碳原子数为1~5的烷基或取代烷基,R1与R2可以相互连接并和与两者结合的SO2及N一同形成五员环或六员环)、通式[化学式2](式中的Rf是氢原子的一部分或全部被氟原子取代的碳原子数为1~5的烷基或取代烷基,m及n是整数2或3)、或通式Rf’-COOH (式中的Rf’是碳原子数为8~20且至少部分被氟化的烷基)表示的水或醇类溶剂可溶性氟化合物中的至少一种。
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