[发明专利]基于散射测量数据确定工艺参数值的方法无效
申请号: | 200580012771.1 | 申请日: | 2005-02-22 |
公开(公告)号: | CN1947062A | 公开(公告)日: | 2007-04-11 |
发明(设计)人: | H·A·J·克拉默;H·凡德拉恩;R·H·J·卡帕杰;A·G·M·基尔斯 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 刘红;张志醒 |
地址: | 荷兰费*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 一种依照一个实施方案的方法,包括用光探测装置从设置在校准基板上的多个标记结构组中得到校准测量数据。每个标记结构组包括使用工艺参数的不同已知值生成的至少一个校准标记结构。这种方法包括用光探测装置从设置在基板上、并用工艺参数的未知值加以曝光的至少一个标记结构中得到测量数据;以及通过利用在基于工艺参数的已知值和校准测量数据的模型中的回归系数,从得到的测量数据确定工艺参数的所述未知值。 | ||
搜索关键词: | 基于 散射 测量 数据 确定 工艺 参数 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于确定至少一个工艺参数的方法,该方法包括:从设置在校准目标上的多个校准标记结构组中得到校准测量数据,所述的多个校准标记结构组中的每个都包括至少一个校准标记结构,不同校准标记结构组中的校准标记结构采用所述至少一个工艺参数的不同已知值来生成;通过使用所述至少一个工艺参数的所述已知值并对所述校准测量数据应用回归技术,确定数学模型,所述数学模型包括若干个回归系数;从设置在目标上的至少一个标记结构得到测量数据,所述至少一个标记结构使用所述至少一个工艺参数的未知值来制作;以及通过利用所述数学模型的所述回归系数,从所述得到的测量数据中为所述目标确定所述至少一个工艺参数的未知值。
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