[发明专利]用于形成液浸曝光工艺用光刻胶保护膜的材料、以及使用该保护膜的光刻胶图案形成方法无效
| 申请号： | 200580012969.X | 申请日： | 2005-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN1946751A | 公开（公告）日： | 2007-04-11 |
| 发明（设计）人： | 石冢启太;肋屋和正;远藤浩太郎;吉田正昭 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | C08F20/10 | 分类号： | C08F20/10;C08F22/00;C08F36/16;G03F7/11;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海新高专利商标代理有限公司 | 代理人： | 楼仙英 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种液浸曝光工艺，特别是通过在光刻曝光光线到达光刻胶膜的通路中，至少在前述光刻胶膜上设置特定厚度的，折射率比空气大并且比前述光刻胶膜小的液体的状态下，进行曝光提高光刻胶图案的分辨率，同时防止使用以水为首的各种浸渍液的液浸曝光中的光刻胶膜的变质和所使用浸渍液的变质，并且没有导致处理工艺步骤的增加，并可以形成使用液浸曝光的高分辨率光刻胶图案。在所使用的光刻胶膜的表面上形成了具有与浸渍光刻胶膜的液体特别是水实质上不相溶，而可溶于碱的特性的保护膜。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 曝光 工艺 用光 保护膜 材料 以及 使用 光刻 图案 方法 | ||
【主权项】：
1、一种用于形成光刻胶保护膜的材料，其特征在于，所述用于形成光刻胶保护膜的材料设置在光刻胶膜上保护液浸曝光工艺中所用的光刻胶膜，具有对曝光光线透明，实质上与水不相溶，并且可溶于碱的特性。
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