[发明专利]透镜阵列及其制作方法无效
| 申请号： | 200580012980.6 | 申请日： | 2005-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN1997929A | 公开（公告）日： | 2007-07-11 |
| 发明（设计）人： | 汤寅生 | 申请（专利权）人： | 汤寅生 |
| 主分类号： | G02B27/10 | 分类号： | G02B27/10;B29D11/00;G03C5/00;H01L27/148;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了用于具有或不具有集成传感器单元的透镜或微透镜阵列或非球形透镜的系统和方法。基板和透镜材料之间的电介质具有弯曲凹槽，该凹槽被透镜材料填充。光进入透镜材料层并被弯曲凹槽部分聚焦。 | ||
| 搜索关键词： | 透镜 阵列 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种制作透镜或透镜阵列的方法，包括：提供基板；在所述基板上沉积介电层；在所述介电层上沉积图形化层；去除与待形成的透镜相对应的介电层的区域重叠的所述图形化层的一部分；去除所述介电层的曝光部分以在所述介电层的曝光部分内形成弯曲凹槽；以及使用透镜材料填充所述弯曲凹槽。
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