[发明专利]光波阵面控制图形生成装置以及光波阵面控制图形生成方法无效

专利信息
申请号: 200580012995.2 申请日: 2005-04-26
公开(公告)号: CN1947071A 公开(公告)日: 2007-04-11
发明(设计)人: 壶井雅史;堀越力 申请(专利权)人: 株式会社NTT都科摩
主分类号: G03H1/04 分类号: G03H1/04;G02B27/22;G02F1/13
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人: 许静
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的光波阵面控制图形生成装置(1),具备:作为目标图像探测对象物(B)的空间信息的目标图像探测部(60);探测在再生图像显示部(30)上所显示的再生图像的再生图像探测部(40);根据由目标图像探测部(60)探测到的目标图像,进行对由再生图像探测部(40)探测到的再生图像的评价,并对光波阵面控制图像实施变更处理来使该评价结果满足规定的条件,由此来生成最佳的光波阵面控制图像的最佳化部(50)。
搜索关键词: 光波 控制 图形 生成 装置 以及 方法
【主权项】:
1.一种光波阵面控制图形生成装置,其用于通过对记录了光波阵面控制图形的光波阵面控制部照射照明光,在再生图像显示部上显示对象物的再生图像的图像再生系中,生成所述光波阵面控制部中存储的最佳的光波阵面控制图形,其特征在于,具有:目标图像探测部,其作为目标图像探测所述对象物的空间信息;再生图像探测部,其探测在所述再生图像显示部上所显示的再生图像;最佳化部,其根据由所述目标图像探测部探测到的所述目标图像,进行对所述再生图像探测部探测到的所述再生图像的评价,并对所述光波阵面控制图形进行变更处理来使该评价结果满足规定条件,由此生成所述最佳的光波阵面控制图形。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社NTT都科摩,未经株式会社NTT都科摩许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580012995.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top