[发明专利]基板处理单元及基板处理装置

摘要

本发明涉及基板处理单元，通过用一个基板处理单元进行使用不同处理液的处理，能够实现基板处理整个工艺的空间的削减及基板搬运所需的能量的削减。该基板处理单元具有：上下移动自如的基板保持部(72)，保持基板(W)；外槽(70)，包围该基板保持部(72)的周围；内槽(74)，位于基板保持部(72)的下方，配置在外槽(70)的内部，内部具有药液处理部(84)；喷射处理用盖(76)，自如地闭塞内槽(74)的上端开口部，具有分别喷雾至少2种以上的处理液的多个喷射嘴(116、118)；外槽(70)及内槽(74)具有分别的排液线路(78、92)。

主权项

1、一种基板处理单元，其特征在于，具有：上下移动自如的基板保持部，保持基板；外槽，包围上述基板保持部的周围；内槽，位于上述基板保持部的下方，配置在上述外槽的内部，在内部具有药液处理部；喷射处理用盖，自如地闭塞上述内槽的上端开口部，具有分别喷雾至少2种以上处理液的多个喷射嘴；上述外槽及上述内槽具有分别的排液线路。