[发明专利]线边缘粗糙度控制

摘要

提供一种通过在该要蚀刻的层和衬底上面的光刻胶掩模之间带有ARC层的光刻胶掩模蚀刻一个层用的方法。把该衬底放入处理室。向该处理室提供ARC打开气体混合物。该ARC打开气体混合物包括蚀刻剂气体以及包括CO和CH₃F的聚合气体。ARC打开等离子体是从该ARC打开气体混合物形成的。ARC层用该ARC打开等离子体蚀刻，直到ARC层打开为止。在该要蚀刻的层完全蚀刻以前停止该ARC打开气体混合物。

主权项

1.一种通过光刻胶掩模蚀刻层的方法，在要蚀刻的层和衬底上面的光刻胶掩模之间带有ARC层，所述方法包括：把该衬底置入处理室；向该处理室提供ARC打开气体混合物，其中该ARC打开气体混合物包括：蚀刻剂气体；和聚合气体，包括CO和CH3F；从ARC打开气体混合物形成ARC打开等离子体；用ARC打开等离子体蚀刻该ARC层，直到ARC层打开为止；和在完全蚀刻要蚀刻的层以前停止ARC打开气体混合物。