[发明专利]用于去除光刻胶的组合物有效
| 申请号： | 200580014564.X | 申请日： | 2005-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN1950755A | 公开（公告）日： | 2007-04-18 |
| 发明（设计）人： | 金柄郁;尹锡壹;金圣培;金玮溶;张锡唱;郑宗铉 | 申请（专利权）人： | 东进世美肯株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人： | 朱梅;徐志明 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种在制作电路或显示器件图形中使用的光刻胶去除剂组合物，更具体地说，涉及一种含有胺、溶剂和防腐剂的光刻胶去除剂组合物，所述防腐剂为选自包括三唑化合物、巯基化合物、含有羟基的有机酚化合物及其混合物的组的至少一种化合物。本发明的光刻胶去除剂组合物能够容易快速地去除光刻胶膜，并且能够使图形化的金属电路的腐蚀降低至最小。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 去除 光刻 组合 | ||
【主权项】：
1、一种光刻胶去除剂组合物，其包括胺、溶剂和防腐剂，其中，所述防腐剂为选自包括三唑基化合物、巯基化合物、含有羟基的苯及其混合物的组的一种或多种化合物。
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