[发明专利]真空处理装置及光盘的制造方法有效
| 申请号： | 200580015292.5 | 申请日： | 2005-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN1954092A | 公开（公告）日： | 2007-04-25 |
| 发明（设计）人： | 泷泽洋次;池田治朗 | 申请（专利权）人： | 芝浦机械电子装置股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/34;C23C14/50;G11B7/26 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 方晓虹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种可抑制因真空中的连续溅射产生的热量而造成的基板升温、可减少在被处理物上产生的倾斜和变形的真空处理装置。一种真空处理装置，其特征在于，包括：可排气成真空状态的主容器(10)；保持主容器的真空状态地将被处理物(101)搬入、搬出主容器的装载闭锁机构(20)；配置在所述主容器(10)内、具有在与装载闭锁机构(20)之间交换承载盘状被处理物的多个基座(57)、且以转轴(52)为中心进行旋转的形成盘状被处理物的搬送路的水平旋转搬送台(50)；在所述主容器内沿着以所述转轴(52)为中心的圆周进行配置、在由旋转搬送台搬送的盘状被处理物上堆积多层膜的多个成膜室(30)；以及配置在成膜室相互间、对盘状被处理物进行冷却的冷却机构(40)。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 处理 装置 光盘 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种真空处理装置，其特征在于，包括：可排气成真空状态的主容器；保持所述主容器的真空状态地将被处理物搬入、搬出所述主容器的装载闭锁机构；配置在所述主容器内、形成所述被处理物的搬送路的旋转搬送台；在所述主容器内沿着以所述旋转搬送台的转轴为中心的圆周进行配置、在所述被处理物上堆积多层膜的多个成膜室；以及配置在所述多个成膜室相互间、对所述被处理物进行冷却的冷却机构。
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