[发明专利]处理装置和加热器单元无效

专利信息
申请号: 200580015706.4 申请日: 2005-07-01
公开(公告)号: CN1954095A 公开(公告)日: 2007-04-25
发明(设计)人: 村上诚志;多田国弘 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: C23C16/46 分类号: C23C16/46;H01L21/205;H01L21/31;H05B3/10;H05B3/12;H05B3/74
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种处理装置,其具有可防止因埋设的加热器的加热而发生破裂的载置台。载置晶片(W)的载置台(32A)具有多个区域(32Aa、32Ab),在多个区域的每一个内,独立地埋设有多个加热器中的一个。埋设在相邻区域中的一方(32Aa)中的加热器(35Aa),具有延伸至另一方的区域(32Ab)内的部分(35Aa2),埋设在相邻区域中的另一方的区域(32Ab)中的加热器(35Ab),具有延伸至一方的区域(32Aa)内的部分(35Ab2)。
搜索关键词: 处理 装置 加热器 单元
【主权项】:
1.一种处理装置,一边加热被处理体一边进行处理,其特征在于,包括:处理容器;配置在该处理容器内,载置所述被处理体的载置台;和埋设在该载置台内,用于通过加热所述载置台而加热被载置的所述被处理体的多个加热器,所述载置台具有多个区域,在该多个区域的每个内,独立地埋设有所述多个加热器中的一个,埋设在相邻区域中的一方中的所述加热器,具有延伸至该相邻区域中的另一方的区域内的部分,埋设在相邻区域中的所述另一方的区域中的所述加热器,具有延伸至所述相邻区域中的所述一方的区域内的部分。
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