[发明专利]曝光装置、曝光方法及元件制造方法

摘要

一种曝光装置具备，具有多数个光学元件的投影光学系统。最靠近投影光学系统像面的光学元件(2G)的下面(2S)侧的第1空间(K1)被液体(LQ1)所填满，光学元件(2G)的上面(2T)侧的独立于第1空间(K1)的第2空间(K2)被液体(LQ2)所填满。透过第1空间(K1)的液体LQ1及第2空间(K2)的液体(LQ2)对基板(P)上照射曝光用光而将基板(P)曝光。据此，防止次于光学元件(2G)靠近像面的光学元件(2F)受到液体(LQ2)的污染。

主权项

1.一种曝光装置，是对基板上照射曝光用光而将该基板曝光，其特征在于具备：具备多数个元件的投影光学系统；支撑构件，用来将所述多数个元件中最靠近投影光学系统像面的第1元件，以相对投影光学系统的光轴大致静止的状态支撑；第1空间，形成于该第1元件的一面侧，被液体所填满；及第2空间，以独立于该第1空间的方式形成于第1元件的另一面侧，被液体所填满；以该第1空间的液体来形成用来覆盖基板表面一部分的液浸区域，并且透过该第1空间的液体及第2空间的液体来对该基板上照射曝光用光而将该基板曝光。