[发明专利]金属氧化物的等离子体增强化学气相沉积无效
| 申请号： | 200580016213.2 | 申请日： | 2005-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN1957109A | 公开（公告）日： | 2007-05-02 |
| 发明（设计）人： | D·P·迪内加;C·M·魏卡特 | 申请（专利权）人： | 陶氏环球技术公司 |
| 主分类号： | C23C16/40 | 分类号： | C23C16/40;C23C16/50 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 程伟 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 通过对金属氧化物前体(10)和氧化剂进行电晕放电(40)或介电阻挡放电以形成金属氧化物并将其沉积到基材上，可以在相对较低的温度和在等于或接近大气压下将金属氧化物涂料涂敷到基材(60)上。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 氧化物 等离子体 增强 化学 沉积 | ||
【主权项】：
1.一种包含下列步骤的方法：1)在存在氧化剂的情况下对金属氧化物前体进行电晕放电或介电阻挡放电以通过等离子体增强化学气相沉积将前体转化成金属氧化物，和2)将金属氧化物沉积到基材上。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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