[发明专利]含良溶剂及不良溶剂的清漆有效
| 申请号： | 200580017389.X | 申请日： | 2005-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN1961615A | 公开（公告）日： | 2007-05-09 |
| 发明（设计）人： | 加藤拓;吉本卓司;小野豪 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | H05B33/22 | 分类号： | H05B33/22;H05B33/10;H05B33/14 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王健 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种清漆，其中含有：由分子量200～1000的有机化合物或分子量200～50万的低聚物或聚合物构成的基质；以及，含良溶剂及具有比良溶剂至少低20℃的沸点(760mmHg下)的不良溶剂的溶剂，上述基质溶于该溶剂中。以该清漆制成的薄膜，由于几乎不含杂质，故可适用作电子器件用薄膜及其他技术领域的薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 溶剂 不良 清漆 | ||
【主权项】：
1.一种清漆，其特征在于，其中含有：由分子量200～1000的有机化合物或分子量200～50万的低聚物或聚合物构成的基质；以及，含良溶剂及具有比良溶剂至少低20℃的沸点(760mmHg下)的不良溶剂的溶剂，上述基质溶于该溶剂中。
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