[发明专利]三酮类化合物、其制造方法及含有该类化合物的除草剂有效
申请号: | 200580017835.7 | 申请日: | 2005-06-02 |
公开(公告)号: | CN1960967A | 公开(公告)日: | 2007-05-09 |
发明(设计)人: | 中村裕治;佐野真喜子 | 申请(专利权)人: | 石原产业株式会社 |
主分类号: | C07C317/24 | 分类号: | C07C317/24;A01N35/06;A01N43/28;A01N43/32;C07D307/12;C07D317/22;C07D319/06 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 段承恩;田欣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发提供新的三酮类化合物、其制造方法及含有该类化合物的优异的除草剂。本发明特别提供式(I)表示三酮类化合物或其盐,[式中,y为1~6的整数;A为含有1~2个选自氧原子和硫原子组成的组中的至少1种杂原子的5或6元饱和杂环基等;R1为卤素;R2为烷基、卤代烷基等;R3、R4、R6、R7及R8分别为氢原子或烷基;R5为氢原子、烷基或环烷基;Q为氢原子等]。 | ||
搜索关键词: | 酮类 化合物 制造 方法 含有 该类 除草剂 | ||
【主权项】:
1.式(I)所示的三酮类化合物或其盐,[化1]
式中,y为1~6的整数;A为含有1~2个选自氧原子和硫原子组成的组中的至少1种杂原子的5或6元饱和杂环基(杂环基可被烷基取代)或二烷氧基甲基;R1为卤素;R2为烷基、卤代烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷硫基、卤代烷硫基、烷基亚磺酰基、卤代烷基亚磺酰基、烷基磺酰基、卤代烷基磺酰基、二烷基氨基磺酰基、二(卤代烷基)氨基磺酰基、硝基、或氰基;R3、R4、R6、R7及R8分别为氢原子或烷基;R5为氢原子、烷基或环烷基,R5和R8可一起形成3~6元饱和碳环,R5和R6可一起形成酮;Q为氢原子、-C(=O)-(CH2)n-R9、-C(=L)-M-R9、-C(=L)-N(R9)R10、-SO2-N(R9)R10、或-SO2-R9;L和M分别为氧原子或硫原子;n为0~3;R9和R10分别为氢原子、烷基、烷氧基烷基、烷氧基、可被取代的苯基或可被取代的苄基;R9和R10可一起形成5或6元饱和杂环基;但是,y为1,A为1,3-二烷-2-基或1,3-二氧杂戊环-2-基的场合除外。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于石原产业株式会社,未经石原产业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580017835.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。