[发明专利]用于气体清洁的装置和方法有效
| 申请号： | 200580017988.1 | 申请日： | 2005-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN1961139A | 公开（公告）日： | 2007-05-09 |
| 发明（设计）人： | S·斯泽佩斯 | 申请（专利权）人： | 阿尔法拉瓦尔股份有限公司 |
| 主分类号： | F01M13/04 | 分类号： | F01M13/04;B01D45/14;B03C3/01;B03C3/15;B04B5/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 蔡民军;廖凌玲 |
| 地址： | 瑞典*** | 国省代码： | 瑞典;SE |
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| 摘要： | 本发明涉及用于清洁包含有微粒杂质的气体的装置和方法。该装置包括主分离器(1)，其具有气体入口(3)，气体出口(4)和提供在入口和出口之间的旋转部件(7)。该旋转部件适合于使气体旋转以借助于离心力从气体中分离微粒杂质的主要量，其中微粒杂质的剩余量仍然在气体中。该装置还包括附加分离器(2)，其适于分离大体上所有的剩余量。该附加分离器包括静电过滤器。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 气体 清洁 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于清洁包含微粒杂质的气体的装置，其中所述装置包括主分离器(1)，主分离器具有气体入口(3)，气体出口(4)和旋转部件(7)，所述旋转部件(7)设置在入口(3)和出口(4)之间并且包括转子轴(13)和固定到转子轴(13)上的多个旋转分离盘(12)，其中旋转部件(7)适合将气体旋转以用于通过离心力从气体中分离微粒杂质的主要量，其中微粒杂质的剩余量保留在气体中，其特征在于，所述装置包括附加分离器(2)，其适于基本上分离整个所述剩余量，其中附加分离器(2)包括静电过滤器。
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