[发明专利]阴离子聚合物的制造方法有效
| 申请号： | 200580018471.4 | 申请日： | 2005-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN1964996A | 公开（公告）日： | 2007-05-16 |
| 发明（设计）人： | 高桥荣治;山口胜司 | 申请（专利权）人： | 日本曹达株式会社 |
| 主分类号： | C08F2/38 | 分类号： | C08F2/38;C08F4/44;C08F12/22 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 苗堃;刘继富 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 阴离子聚合物的制造方法，其中，在不具有聚合引发能力但可与阻聚物质反应而转化为不阻碍聚合的化合物的阴离子种存在的反应体系中，添加阴离子聚合性单体，接着添加具有聚合引发能力的阴离子种。即使在体系中存在阻聚物质或阻聚物质从外部流入时，也能够制造高分子量的阴离子聚合物，并且可以控制精确的分子量。 | ||
| 搜索关键词： | 阴离子 聚合物 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、阴离子聚合物的制造方法，其特征为，在不具有聚合引发能力但可与阻聚物质反应而转化为不阻碍聚合的化合物的阴离子种存在的反应体系中，添加阴离子聚合性单体，接着添加具有聚合引发能力的阴离子种。
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