[发明专利]金刚石薄膜的涂膜法及包覆金刚石的硬质合金部件无效
| 申请号： | 200580018812.8 | 申请日： | 2005-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN101027425A | 公开（公告）日： | 2007-08-29 |
| 发明（设计）人： | 一色秀夫 | 申请（专利权）人： | 国立大学法人电气通信大学;株式会社校园创新 |
| 主分类号： | C23C16/02 | 分类号： | C23C16/02;C23C8/08;C23C14/14;C23C14/16;C23C14/58;C23C16/26;C23C28/04;B23B27/14;B23B27/20 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 熊志诚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种金刚石薄膜的涂膜法，其不必形成中间层便能形成金刚石薄膜。由于硬质合金的结合相中所含有的钴具有形成石墨的催化剂作用，该金刚石薄膜在以往是难以形成的。本发明的金刚石薄膜的涂膜法是，将由碳化物(2)的硬质相和含有钴的结合相(1)构成的硬质合金表面上存在的结合相(11)的钴硅化而成为硅化物(3)，然后形成上述金刚石薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 金刚石 薄膜 涂膜法 硬质合金 部件 | ||
【主权项】：
1.一种金刚石薄膜的涂膜法，在以由碳化物的硬质相和含有钴的结合相构成的硬质合金为基材，在该基材上形成金刚石薄膜的金刚石薄膜的涂膜法中，其特征是，将存在于上述基材表面上的上述结合相的钴硅化而形成硅化物，然后形成上述的金刚石薄膜。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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