[发明专利]微阵列的制备方法无效
申请号: | 200580018832.5 | 申请日: | 2005-03-31 |
公开(公告)号: | CN1964780A | 公开(公告)日: | 2007-05-16 |
发明(设计)人: | 则竹基生;大西孝生;广田寿一 | 申请(专利权)人: | 日本碍子株式会社 |
主分类号: | B01J19/00 | 分类号: | B01J19/00 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张敬强 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提供一种制备微阵列的方法,包括以下步骤:(A)将从出口(4)释放到外部的液体样本(S)喷射到检查载体(65)上,来形成检查斑点(75),对生成的检查斑点(75)的质量进行检查,来确定检查斑点(75)是有缺陷的还是良好的,并且如果存在,检测有缺陷释放单元(51);(B)使检测出的有缺陷释放单元(51)停止从出口(4)向外部释放液体样本(S),来防止从有缺陷释放单元(51)形成有缺陷样本斑点(71);(C)使用良好释放单元(52)在载体(60)上形成良好样本斑点(72),来提供良好微阵列(102),其上良好斑点(72)以预定式样线列在载体上;和(D)在良好微阵列(102)上的在步骤(B)中没有形成斑点的有缺陷斑点(71)的位置处形成应在最初形成的良好斑点(72),由此提供包括以预定式样线列在载体(60)上的良好斑点(72)的成品微阵列。 | ||
搜索关键词: | 阵列 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种制备微阵列的方法,所述微阵列包括以预定式样形成在载体上的样本斑点,所述方法通过提供多个释放单元,每一个释放单元包括具有液体样本入口、通道、贮液室和出口的基底以及设置在与基底上的贮液室相对应位置处的压电/电致伸缩元件,并且通过将从所述出口释放到外部的液体样本喷射到载体上,在载体上形成与每一个释放单元相对应的样本斑点来制备微阵列,所述方法包括以下步骤:(A)将从出口向外部释放的液体样本喷射到检查载体上,来形成检查斑点,对生成的检查斑点的质量进行检查,来确定检查的斑点是有缺陷的还是良好的,并且检测有缺陷释放单元;(B)使检测到的有缺陷释放单元停止从出口向外部释放液体样本,来防止从有缺陷释放单元形成有缺陷样本斑点;(C)使用良好释放单元在载体上形成良好样本斑点来提供良好微阵列,其上良好斑点以预定式样线列在载体上;(D)在良好微阵列上,在步骤(B)中没有形成斑点的有缺陷斑点位置处,形成应在最初形成的良好斑点,由此提供包括以预定式样线列在载体上的良好斑点的成品微阵列。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本碍子株式会社,未经日本碍子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580018832.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:菊米提取物的制备方法
- 下一篇:用于芯片贴装机的贴装头组件