[发明专利]硅氧烷系涂料、光学制品及硅氧烷系涂料的制备方法有效

专利信息
申请号: 200580019195.3 申请日: 2005-06-10
公开(公告)号: CN1969023A 公开(公告)日: 2007-05-23
发明(设计)人: 诹访充史;细野博;竹田清佳;谷口孝;南口尚士 申请(专利权)人: 东丽株式会社
主分类号: C09D183/04 分类号: C09D183/04;B32B7/02;B32B27/00;C08J7/04;C09D5/16;C09D5/32;C09D7/12;C09D183/08;G02B1/10
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 孙秀武;李平英
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供硅氧烷系涂料,该硅氧烷系涂料是含有氧化硅微粒、硅氧烷化合物和固化剂的涂料,通过该涂料形成涂膜时,所得到的涂膜均质化。通过本发明,提供贮存稳定性优异,且通过该涂料形成涂膜时,所得到的涂膜的表面硬度较高的硅氧烷系涂料。此外,本发明提供反射防止性优异且耐擦伤性优异的光学制品。
搜索关键词: 硅氧烷系 涂料 光学 制品 制备 方法
【主权项】:
1.硅氧烷系涂料,其是含有氧化硅微粒、硅氧烷化合物和固化剂的涂料,其中,通过该涂料来形成涂膜时,所得到的涂膜均质化。
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