[发明专利]辐射装置无效
| 申请号： | 200580019761.0 | 申请日： | 2005-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN101027185A | 公开（公告）日： | 2007-08-29 |
| 发明（设计）人： | 雷纳·高斯;沃尔夫冈·莫尔;贡特尔·格泽尔;托马斯·克林根贝格 | 申请（专利权）人： | 先进光学技术股份有限公司 |
| 主分类号： | B41F23/04 | 分类号： | B41F23/04;B01J19/12;F26B3/28 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王艳江;段斌 |
| 地址： | 德国布*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 公开了一种辐射装置，该装置特别用于印刷机、涂层机械等的UV交联装置的技术应用。所述辐射装置包括至少一个发射处理射线的辐射源；至少一个可控的并且特别是具有波长选择性的反射器，该反射器分配到辐射源并用于将处理射线选择性地引导到待处理基底上或远离该基底；驱动机构，其有效地连接到该反射器；和壳体，其容纳至少一个辐射源和至少一个反射器。设置有至少一个第一和第二辐射源，二者之间设置有可控反射器，并且该二者特别能够分开操作。该反射器形成并安装为在第一位置朝向基底引导所有辐射源的处理射线，而在第二位置引导所有辐射源的处理射线远离该基底。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 装置 | ||
【主权项】：
1.一种辐射装置，该装置特别用于印刷机、涂层机械等的UV交联装置的技术应用，包括：至少一个发射处理射线的辐射源，至少一个可控的并且特别是具有波长选择性的反射器，该反射器分配到辐射源并用于将处理射线选择性地引导到待处理基底上或远离该基底，驱动机构，其有效地连接到该反射器，和壳体，其容纳该至少一个辐射源和至少一个反射器，其特征在于，设置有至少第一和第二辐射源，二者之间设置有可控反射器，并且该二者特别地能够独立操作，并且该反射器构形并保持为：在第一位置其朝向该基底引导所有辐射源的处理射线，而在第二位置其引导处理射线远离该基底。
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