[发明专利]离子发生单元及离子发生装置有效

专利信息
申请号: 200580019915.6 申请日: 2005-10-20
公开(公告)号: CN1969435A 公开(公告)日: 2007-05-23
发明(设计)人: 加藤慎滋;吉田有纪彦 申请(专利权)人: 株式会社村田制作所
主分类号: H01T23/00 分类号: H01T23/00;H01T19/04
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 代理人: 曾旻辉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一个离子发生部件(4),包括有:在绝缘基板(41)上,有地极(42),高压电极(43),位于地极(42)表面的绝缘膜(44)和线状电极(45)。地极(42)被装置在绝缘基板(41)的靠外缘区域且有一对脚(42a、42b),这一对脚与线状电极(45)相平行,线状电极(45)位于这对脚(42a、42b)之间。地极(42)还包括有一个与端子(5b)相接的连接部分(42c)和一个与上部树脂外罩(3)相接的绝缘罩连接部分(42d)。绝缘膜(44)基本上覆盖了绝缘基板(41)的整个表面,却不覆盖高压电极(43)、地极(42)上的连接部分(42c)和绝缘罩连接部分(42d)。
搜索关键词: 离子 发生 单元 装置
【主权项】:
1、一个离子发生单元包括:一个有地极的绝缘基板,该绝缘基板上有绝缘膜覆盖地极的一部分,且有一部分地极不被覆盖;一个线状电极;一个容纳上述绝缘基板和线状电极的绝缘外罩;其中,上述线状电极被安装在绝缘基板上使得线状电极与地极相对,地极未被绝缘膜覆盖的部分与绝缘外罩相接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社村田制作所,未经株式会社村田制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580019915.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top