[发明专利]光学计量中的形状粗糙度测量有效
| 申请号： | 200580019937.2 | 申请日： | 2005-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN101128835A | 公开（公告）日： | 2008-02-20 |
| 发明（设计）人： | 乔格·比斯彻夫;牛新惠 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G06G7/48 | 分类号： | G06G7/48;G01B11/30 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 柳春雷 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 通过定义结构的初始模型而产生模拟衍射信号，所述模拟衍射信号用于使用光学计量对晶片上形成的结构的形状粗糙度进行测量。定义了形状粗糙度的统计函数。根据统计函数导出统计微扰并叠加在结构的初始模型上以定义结构的修改模型。根据结构的修改模型产生模拟衍射信号。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 计量 中的 形状 粗糙 测量 | ||
【主权项】：
1.一种用于产生模拟衍射信号的方法，所述模拟衍射信号用于使用光学计量对晶片上形成的结构的形状粗糙度进行测量，所述方法包括下列步骤：a)定义所述结构的初始模型；b)定义形状粗糙度的统计函数；c)根据所述统计函数导出统计微扰；d)将所述统计微扰叠加在所述初始模型上定义所述结构的修改模型；以及e)根据所述结构的修改模型产生模拟衍射信号。
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