[发明专利]制造流过电解池的电解质室的均匀流的方法无效
| 申请号： | 200580020648.4 | 申请日： | 2005-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN1973062A | 公开（公告）日： | 2007-05-30 |
| 发明（设计）人： | H·伯恩克;H·普特尔;T·马特克 | 申请（专利权）人： | 巴斯福股份公司 |
| 主分类号： | C25B15/02 | 分类号： | C25B15/02;C25B15/08;C25B9/08 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 林柏楠;刘金辉 |
| 地址： | 德国路*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及制造电解池的电解质室的均匀流的方法，其中与平均流速的最大偏差小于1％至25％，这是通过合适的结构措施实现的。本发明还涉及含有至少两个电解质室(2，3)的电解池(1)，电解质室中设置至少一个电极(4，5)，且分别具有入口区和出口区。以使得压力再降低的方式减小入口和/或出口区的流动横截面。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 流过 电解池 电解质 均匀 方法 | ||
【主权项】：
1.制造流过电解池的电解质室的均匀流的方法，其中通过合适的设计手段实现与平均流速的小于1％至25％的最大偏差。
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