[发明专利]用于改进的对准工艺集成的成角的细长特征部有效
| 申请号： | 200580021087.X | 申请日： | 2005-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN1973370A | 公开（公告）日： | 2007-05-30 |
| 发明（设计）人： | K·休金斯 | 申请（专利权）人： | 英特尔公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 陆嘉 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 细长特征部可至少部分地结合于对准区中。该对准区可由沿第一轴对准的多个对准特征部来限定。细长特征部的长轴可以既不平行于第一轴也不垂直于第一轴。对准特征部对准不平行于第一轴的第二轴。第二轴可以既不平行于长轴也不垂直于长轴。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 改进 对准 工艺 集成 细长 特征 | ||
【主权项】：
1.一种方法，包括：在一个或多个半导体部件上形成多个细长特征部，所述细长特征部各自具有基本沿长轴的相关联的长尺寸以及相关联的短尺寸，所述相关联的长尺寸大于所述相关联的短尺寸；以及在所述一个或多个半导体部件中的至少一个上形成多个对准特征部，所述多个对准特征部基本沿长轴对准，所述多个对准特征部限定一对准区，所述对准区以第一外部对准特征部和第二外部对准特征部为边界且向下延伸，其中所述多个细长特征部中的至少一个的一部分包含于所述对准区中；以及其中所述多个细长特征部的长轴和所述对准特征部的长轴彼此既不平行也不垂直。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英特尔公司，未经英特尔公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200580021087.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于普适计算应用的组成模型和组成确认算法
- 下一篇：光纤阵列及其制造方法
