[发明专利]线圈结构图案的外化无效

专利信息
申请号: 200580021254.0 申请日: 2005-06-23
公开(公告)号: CN1977269A 公开(公告)日: 2007-06-06
发明(设计)人: 约翰·P·麦金纳尼;凯文·J·怀特福特 申请(专利权)人: ABB技术有限公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 杨生平;杨红梅
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要: 用户可以在显示器屏幕上创建线圈结构图案并且以信息如注释、关键值、以及脚本片段对其注解。产生线圈结构图案包括接收至少一个图案或子图案(200),以及组配包括图案或子图案的布局(210-230)。将参数值、属性、和/或元数据提供(220)到组配的布局中所设置的图案或子图案,以及基于布局和参数值、属性、和/或元数据而产生(230)线圈结构图案。线圈结构图案可以存储在存储器装置(240)中。线圈图案创建系统包括:存储器装置,存储图案和/或子图案;图案设计系统(200),用于从存储器装置接收图案和/或子图案并且组配包括图案和/或子图案的布局(210-230);以及用户界面,其耦合到图案设计系统以将参数值、属性、和/或元数据提供(220)到组配的布局中所设置的图案和/或子图案。图案设计系统基于布局和参数值、属性、和/或元数据产生线圈结构图案(230)。先前产生的线圈结构图案或部分图案可以存储(240)并重用。
搜索关键词: 线圈 结构 图案 外化
【主权项】:
1.一种产生线圈结构图案的方法,包括:接收至少一个图案或子图案;组配包括所述至少一个图案或子图案的布局;将参数值、属性和元数据的至少一个提供到所述组配的布局中所设置的所述至少一个图案或子图案;以及基于所述布局和所述至少一个参数值、属性和元数据而产生线圈结构图案。
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