[发明专利]防反射涂层用组合物及使用该组合物的图案形成方法无效

专利信息
申请号: 200580021579.9 申请日: 2005-06-29
公开(公告)号: CN101031846A 公开(公告)日: 2007-09-05
发明(设计)人: 松尾二郎;高野圣史;高野祐辅;秋山靖 申请(专利权)人: 大日本油墨化学工业株式会社;日本AZ电子材料株式会社
主分类号: G03F7/11 分类号: G03F7/11;H01L21/027
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种维持作为防反射膜的性能并具有特别优异的涂布特性的防反射涂层用组合物以及使用该组合物的图案形成方法。一种防反射涂层用组合物,其至少含有下述(A)、(B)、(C)、(D)和(E)成分:(A)下述通式(1)所示的全氟烷基·亚烷基磺酸;CnF2n+1(CH2CH2)mSO3H(1)(式中,n表示1~20的整数、m表示0~20的整数)(B)有机胺;(C)水溶性聚合物;(D)下述通式(2)所示的含有全氟烷基乙基的化合物;CkF2k+1CH2CH2-X-Y(2)(式中,k表示1~20的整数、X表示单键或2价的连接基团、Y表示阴离子性基团或非离子性基团。其中,该化合物具有与上述(A)成分不同的结构)(E)水。
搜索关键词: 反射 涂层 组合 使用 图案 形成 方法
【主权项】:
1.一种防反射涂层用组合物,其特征在于,其含有下述(A)、(B)、(C)、(D)和(E)成分:(A)下述通式(1)所示的全氟烷基·亚烷基磺酸;CnF2n+1(CH2CH2)mSO3H (1)(式中,n表示1~20的整数、m表示0~20的整数)(B)有机胺;(C)水溶性聚合物;(D)下述通式(2)所示的含有全氟烷基乙基的化合物;CkF2k+1CH2CH2-X-Y (2)(式中,k表示1~20的整数,X表示单键或2价的连接基团,Y表示阴离子性基团或非离子性基团。其中,该化合物具有与上述(A)成分不同的结构)(E)水。
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