[发明专利]抗蚀剂用聚合物、抗蚀剂用聚合物的制造方法、抗蚀剂组合物、及形成有图案的基板的制造方法有效
| 申请号： | 200580021757.8 | 申请日： | 2005-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN1976962A | 公开（公告）日： | 2007-06-06 |
| 发明（设计）人： | 百濑阳;上田昭史 | 申请（专利权）人： | 三菱丽阳株式会社 |
| 主分类号： | C08F220/28 | 分类号： | C08F220/28;C08F2/38;G03F7/039 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 钟晶 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种抗蚀剂用聚合物(Y′)，其含有聚合物(Y)，聚合物(Y)含有具有内酯骨架的结构单元(A)、具有酸脱离性基团的结构单元(B)，具有亲水性基团的结构单元(C)和具有下述式(1)所示结构的结构单元(E)，其中，结构单元(E)的含量在抗蚀剂用聚合物(Y′)的结构单元总数中占0.3摩尔％以上。可以作为DUV准分子激光平版印刷或电子射线平版印刷等中的抗蚀剂树脂使用。式(1)中，L为碳原子数1～20的直链、支链或环状的2价烃基，该2价烃基也可以含有取代基和/或杂原子。R11为碳原子数1～20的直链、支链或环状的g价烃基，该g价烃基也可以含有取代基和/或杂原子。g表示1～24的整数。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂用 聚合物 制造 方法 抗蚀剂 组合 形成 图案 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀剂用聚合物(Y′)，含有聚合物(Y)，所述聚合物(Y)含有具有内酯骨架的结构单元(A)、具有酸脱离性基团的结构单元(B)、具有亲水性基团的结构单元(C)、及具有下述式(1)所示结构的结构单元(E)，其特征为，结构单元(E)的含量在抗蚀剂用聚合物(Y′)的结构单元总数中占0.3摩尔％以上，![]()
式(1)中，L为碳原子数1～20的直链、支链或环状的2价烃基，该2价烃基也可以含有取代基和/或杂原子，R11为碳原子数1～20的直链、支链或环状的g价烃基，该g价烃基也可以含有取代基和/或杂原子，g表示1～24的整数。
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